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防爆光氧设备是目前研究较多的一项氧化技术。所谓光催化反应，就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射，受激产生分子激发态，然后会发生化学反应生成新的物质，或者变成引发热反应的中间化学产物。光化学反应的活化能来源于光子的能量，在太阳能的利用中光电转化以及光化学转化一直是十分活跃的研究领域。
　　光催化氧化技术利用光激发氧化将O2、H2O2等氧化剂与光辐射相结合。所用光主要为紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工艺，可以用于处理污水中CCl4、多氯联苯等难降解物质。另外，在有紫外光的Fenton体系中，紫外光与铁离子之间存在着协同效应，使H2O2分解产生羟基**基的速率大大加快，促进有机物的氧化去除。
　　防爆光氧设备是在光化学氧化技术的基础上发展起来的。光化学氧化技术是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反应过程。但由于反应条件所限，光化学氧化降解往往不够彻底，易产生多种芳香族有机中间体，成为光化学氧化需要克服的问题，而通过和光催化氧化剂的结合，可以大大提高光化学氧的效率。
　　根据光催化氧化剂使用的不同，可以分为均相光催化氧化和非均相光催化氧化。
　　均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质，通过光助- 芬顿反应产生羟基**基使污染物得到降解。紫外光线可以提高氧化反应的效果，是一种有效的催化剂。紫外/臭氧（UV/03）组合是通过加速臭氧分解速率，提高羟基**基的生成速度，并促使有机物形成大量活化分子，来提高难降解有机污染物的处理效率。
　　非均相光催化降解是利用光照射某些具有能带结构的半导体光催化剂如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可诱发产生羟基**基。在水溶液中，水分子在半导体光催化剂的作用下，产生氧化能力极强的羟基**基，可以氧化分解各种有机物。把这项技术应用于POPs的处理，可以取得良好的效果，但是并不是所有的半导体材料都可以用作这项技术的催化剂，比如CdS是一种高活性的半导体光催化剂，但是它容易发生光阳极腐蚀，在实际处理技术中不太实用。而TiO2可使用的波长可达387.5nm，价格便宜，多数条件下不溶解，耐光，无毒性，因此TiO2得到了广泛的应用。